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  发表日期:2020年7月13日  共浏览218 次   【字体:放大 正常 缩小】 
“如何突破光刻技术难题”座谈会在中科院理化所召开

在辐射固化专委会及行业领导中山大学杨建文教授、北京化工大学聂俊教授及上级学会中国感光学会领导们的指导指示下,由专委会副主任、南昌航空大学梁红波教授撰写的“如何突破光刻技术难题”从全国上报的近五百个课题中脱颖而出,成果入选为中科协2020年十大工程技术难题。


此次入选上层也高度重视。7月8日,在中国感光学会的领导组织下,“如何突破光刻技术难题”专家座谈会在中国科学院理化技术研究所顺利召开。座谈会采用现场和视频同步方式进行。中国科学院院士杨万泰、佟振合、彭孝军、吴骊珠,中国工程院院士许祖彦、罗先刚、刘文清,中国感光学会理事长、理化所所长张丽萍,名誉理事长蒲嘉陵,副理事长杨建文、邹应全,荣誉理事洪啸吟,秘书长、理化所副所长汪鹏飞,常务副秘书长任俊,作者梁红波,工业和信息化部、国家自然科学基金委员会、科技部高新技术司等有关领导,以及辐射固化专委会行业领导院校企业专家代表共60余人参加了座谈会。张丽萍理事长主持会议。



张丽萍理事长首先介绍了“如何突破光刻技术难题”入选2020年十大重大工程技术难题的相关情况和中国科协对入选问题难题的后续工作要求。随后,作者梁红波教授汇报了工作进展,详细介绍了“如何突破光刻技术难题”的问题背景、重要意义、最新进展、主要难点及其相关政策建议等。杨建文教授对工作进展进行了补充。

 

在研讨环节,与会专家们围绕突破光刻技术难题的进展情况、光刻技术面临的主要问题、光刻技术应用情况以及突破难题的技术与政策建议等进行了热烈讨论,为进一步完善专题建议报告提出了各自的意见和建议。此次座谈会旨在跟踪了解难题研究进展,分析难点与挑战,提出技术与政策建议,形成难题研究专项报告《科技工作者建议》,呈报相关部门决策参考使用。从而使入选问题难题服务国家科技决策、纳入国家规划、与国家重大工程项目结合,推动关键技术联合攻坚、促进应用推广,为我国光刻技术跨越发展,解决微电子制造的“卡脖子”技术难题做出贡献。


                                                        

 



 
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